Lensa Fotokromik SETO 1.60 SHMC
Spesifikasi
| Lensa optik shmc fotokromik 1,60 | |
| Model: | Lensa optik 1,60 |
| Tempat asal: | Jiangsu, Tiongkok |
| Merek: | SETO |
| Bahan Lensa: | Damar |
| Warna Lensa: | Jernih |
| Indeks bias: | 1.60 |
| Diameter: | 75/70/65 mm |
| Fungsi: | fotokromik |
| Nilai Abbe: | 32 |
| Berat jenis: | 1.26 |
| Pilihan Pelapisan: | HMC/SHMC |
| Warna lapisan | Hijau |
| Rentang Daya: | Sp:0,00 ~-10,00;+0,25 ~ +6,00;Sil:0,00~ -4,00 |
Fitur Produk
1) Apa itu pelapisan spin?
Spin coat adalah prosedur yang digunakan untuk mendepositkan film tipis yang seragam pada substrat datar.Biasanya sejumlah kecil bahan pelapis diaplikasikan pada bagian tengah substrat, yang berputar dengan kecepatan rendah atau tidak berputar sama sekali.Substrat kemudian diputar dengan kecepatan hingga 10.000 rpm untuk menyebarkan bahan pelapis dengan gaya sentrifugal.Mesin yang digunakan untuk spin coater disebut spin coater, atau sederhananya spinner.
Rotasi dilanjutkan sementara fluida berputar dari tepi substrat, hingga ketebalan film yang diinginkan tercapai.Pelarut yang digunakan biasanya mudah menguap dan menguap pada saat yang bersamaan.Semakin tinggi kecepatan sudut putaran, semakin tipis filmnya.Ketebalan film juga bergantung pada viskositas dan konsentrasi larutan, serta pelarutnya.[2]Analisis teoritis perintis spin pelapisan dilakukan oleh Emslie et al., dan telah diperluas oleh banyak penulis berikutnya (termasuk Wilson et al.,[4] yang mempelajari laju penyebaran dalam spin pelapisan; dan Danglad-Flores et al., [5] yang menemukan deskripsi universal untuk memprediksi ketebalan film yang diendapkan).
Spin coat banyak digunakan dalam mikrofabrikasi lapisan oksida fungsional pada kaca atau substrat kristal tunggal menggunakan prekursor sol-gel, di mana dapat digunakan untuk membuat film tipis seragam dengan ketebalan berskala nano.Ia digunakan secara intensif dalam fotolitografi, untuk menyimpan lapisan photoresist setebal 1 mikrometer.Photoresist biasanya diputar dengan kecepatan 20 hingga 80 putaran per detik selama 30 hingga 60 detik.Ia juga banyak digunakan untuk pembuatan struktur fotonik planar yang terbuat dari polimer.
Salah satu keuntungan memutar film tipis pelapis adalah keseragaman ketebalan film.Karena self-leveling, ketebalannya tidak bervariasi lebih dari 1%.Namun, lapisan spin film polimer dan photoresist yang lebih tebal dapat menghasilkan manik-manik tepi yang relatif besar yang planarisasinya memiliki batas fisik.
2) Bagaimana Cara Kerja Pelapisan Spin?
Proses ini bekerja dengan mengontrol kecepatan relatif terhadap berbagai sifat material larutan secara hati-hati.Viskositas adalah yang utama di antara sifat-sifat ini karena menentukan ketahanan terhadap aliran seragam, yang sangat penting dalam mencapai permukaan akhir yang seragam.Pelapisan spin kemudian dilakukan pada rentang kecepatan yang sangat luas, mulai dari 500 putaran per menit (rpm) hingga 12.000 rpm – tergantung pada viskositas larutan.
Viskositas bukan satu-satunya sifat material yang menarik dalam pelapisan spin.Tegangan permukaan juga dapat mempengaruhi karakteristik aliran larutan, sedangkan persen padatan dapat mempengaruhi ketebalan film tipis yang diperlukan untuk mencapai sifat penggunaan akhir tertentu (yaitu mobilitas listrik).Spin coat kemudian dilakukan dengan pemahaman penuh tentang sifat material yang relevan, dengan banyak parameter yang dapat disesuaikan agar sesuai dengan karakteristik yang berbeda (aliran, viskositas, keterbasahan, dll.).
Pelapisan putaran dapat dilakukan dengan menggunakan start statis atau dinamis, yang masing-masing dapat diprogram untuk peningkatan akselerasi yang ditentukan pengguna dan berbagai kecepatan putaran.Penting juga untuk memperhitungkan periode pembuangan asap dan waktu pengeringan karena ventilasi yang buruk dapat mengakibatkan cacat optik dan ketidakseragaman.Misalnya: Pola pusaran mungkin menunjukkan bahwa laju pembuangan terlalu tinggi untuk larutan yang membutuhkan waktu lebih lama untuk mengering.Tidak ada solusi universal dalam hal pelapisan spin, dan setiap proses harus dilakukan dengan pendekatan holistik terhadap substrat dan larutan pelapis yang dimaksud.
3) Pilihan Pelapisan?
Sebagai Lensa Fotokromik 1,60 SHMC, lapisan super hidrofobik adalah satu-satunya pilihan lapisan untuknya.
Lapisan super hidrofobik disebut juga lapisan crazil, dapat membuat lensa tahan air, antistatik, anti selip dan tahan minyak.
Secara umum, lapisan super hidrofobik dapat bertahan 6~12 bulan.
Sertifikasi
Pabrik kami
