SETO 1.67 Lensa Fotokromik SHMC

1) Apa itu pelapisan spin?

Spin coat adalah prosedur yang digunakan untuk mendepositkan film tipis yang seragam pada substrat datar.Biasanya sejumlah kecil bahan pelapis diaplikasikan pada bagian tengah substrat, yang berputar dengan kecepatan rendah atau tidak berputar sama sekali.Substrat kemudian diputar dengan kecepatan hingga 10.000 rpm untuk menyebarkan bahan pelapis dengan gaya sentrifugal.Mesin yang digunakan untuk spin coater disebut spin coater, atau sederhananya spinner.
Rotasi dilanjutkan sementara fluida berputar dari tepi substrat, hingga ketebalan film yang diinginkan tercapai.Pelarut yang digunakan biasanya mudah menguap dan menguap pada saat yang bersamaan.Semakin tinggi kecepatan sudut putaran, semakin tipis filmnya.Ketebalan film juga tergantung pada viskositas dan konsentrasi larutan, serta pelarut.Analisis teoritis perintis spin coating dilakukan oleh Emslie dkk., dan telah diperluas oleh banyak penulis berikutnya (termasuk Wilson dkk., yang mempelajari laju penyebaran dalam spin coating; dan Danglad-Flores dkk., yang menemukan a deskripsi universal untuk memprediksi ketebalan film yang diendapkan).
Spin coat banyak digunakan dalam mikrofabrikasi lapisan oksida fungsional pada kaca atau substrat kristal tunggal menggunakan prekursor sol-gel, di mana dapat digunakan untuk membuat film tipis seragam dengan ketebalan berskala nano.Ia digunakan secara intensif dalam fotolitografi, untuk menyimpan lapisan photoresist setebal 1 mikrometer.Photoresist biasanya diputar dengan kecepatan 20 hingga 80 putaran per detik selama 30 hingga 60 detik.Ia juga banyak digunakan untuk pembuatan struktur fotonik planar yang terbuat dari polimer.
Salah satu keuntungan memutar film tipis pelapis adalah keseragaman ketebalan film.Karena self-leveling, ketebalannya tidak bervariasi lebih dari 1%.Namun, lapisan spin film polimer dan photoresist yang lebih tebal dapat menghasilkan manik-manik tepi yang relatif besar yang planarisasinya memiliki batas fisik.